Sinonimi:

HAFNIUM (+4) OXIDE; HAFNIUM OXIDE; HAFNIUM (IV) OXIDE; Obiettivo di sputtering di ossido di afnio (IV), 101,4 mm (4,0 pollici) dia x 6,35 mm (0,25 pollici) di spessore, 99,95% (base metalliche escluse Zr); Hafnium (IV) target di sputtering di ossidu, 101,4 mm (4,0 in.) dia.x 6,35 mm (0,25 in.) di spessore

SRISI Canonici:O=[Hf]=O

Codice HS:28259085

Densità:9,68 g/mL à 25 °C (lit.)

Indice di rifrazione:2.13 (1700 nm)

Puntu di fusione:2810 ° C

Apparizione:polvera

Dichjarazioni di sicurità:22-24/25

WGK Germania:3